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凈化車間溫度濕度及氣流如何控制?
作者:    發布于:2019-05-22 21:22:17    文字:【】【】【
潔凈室的主要功能是提供一個健康的生活和生產環境,創造一個滿足照明、溫度、濕度、噪音、空氣流量、壓力、靜態和衛生指標如微振動環境,使相關的服務和產品,以滿足人們的健康需求的環境,提供一個良好的空間,環境控制,從而有效地提高產品的合格率,改善和提高服務質量的相關目標。
        因此,潔凈室有很多因素需要控制。溫度、濕度、氣壓和氣流速度是關鍵點。
       
 潔凈室溫濕度控制
        潔凈室的溫濕度主要根據工藝要求確定,但在滿足工藝要求的條件下,要考慮人的舒適性。隨著空氣清潔度要求的提高,對溫度和濕度的要求越來越嚴格。
        凈化工程溫度的具體要求將在后面列出,但作為一般原則,隨著加工精度的提高,對溫度波動范圍的要求會越來越小。例如,在大規模集成電路產生的光刻曝光過程中,玻璃與硅片作為掩模材料的熱膨脹系數差要求越來越小。直徑100um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,同時要求濕度值較低,因為人出汗以后,對產品可能有污染,特別是鈉的半導體車間,這種車間不應超過25度。
        高濕度會導致更多的問題。當相對濕度超過55%時,冷卻水管壁暴露。如果它發生在精密設備或電路中,就會引起各種事故。相對濕度往往在50%生銹。此外,當濕度很高時,附著在硅片表面的灰塵會被空氣中的水分子化學地附著在表面,這是很難去除的。相對濕度、粘結力越高,則越難去除,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電顆粒對表面吸附的影響,還容易對大量半導體器件產生擊穿。硅片生產的最佳溫度范圍是35 - 45%。
       

 潔凈室的氣壓規定
        對于大多數潔凈空間,需要保持內部壓力(靜壓)高于外部壓力(靜壓),以防止外部污染的侵入。壓差的維護一般應遵循以下原則:
        (1)潔凈空間的壓力高于不潔凈空間的壓力。
        (2)高潔凈度空間的壓力高于低潔凈度相鄰空間的壓力。
        (3)相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間。
        壓差取決于新風量,新風量可以補償在這個壓差下通過裂縫泄漏的空氣量。所以壓強差的物理意義是空氣通過潔凈室不同縫隙的阻力。
       
潔凈室中的氣流速度規定
        這里討論的氣流速度是指潔凈室內的氣流速度。在討論具體設備時,將說明其他潔凈室的氣流速度。
        對于湍流潔凈室由于稀釋作用主要通過空氣來減少室內污染,所以主要采用空氣改變這一概念,不直接采用速度概念,但室內空氣速度有以下要求;
        (1)供氣出口氣流速度不宜過高。與純空調房間相比,速度下降較快,擴散角較大。
        (2)送風率的風機風速等級(如側送)不應過大,以免顆粒在表面回流,造成污染,一般不宜達到0.2m /s的速度。
        對于平行流潔凈室(傳統上稱為層流潔凈室),速度在橫截面上是一個重要的指標,因為它主要是由氣流“活塞擠壓”來驅動,以去除染料。過去,美國20gB的標準是0.45米/秒。然而,眾所周知,如此高速所需的通風量是非常大的。為了節約能源,人們正在探索降低一種風速的可行性。
        在我國,空氣凈化的技術措施和清潔工廠的設計規范如下:
        (1)垂直平行流(層流)潔凈室大于或等于0.25m/s
        (2)水平平行流(層流)潔凈室大于或等于0.35m/s研究表明,上述規定基本符合污染控制的要求,但認為不同的情況應劃分為不同的等級,以便更好地反映節能的目的。

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